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高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)對于各種大尺寸
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)對于各種大尺寸硅片及晶體材料的研磨拋光加工都能起到理想的效果;高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)是由四個(gè)吸附盤吸附硅片與拋光盤做逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)來達(dá)到拋光的目的，是專門為加工制備晶體、陶瓷、玻璃、金屬、巖樣、礦樣、耐火材料、PCB板、復(fù)合材料的新一代產(chǎn)品。它配備了203mm直徑的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光直徑≤80mm或?qū)蔷€長≤80mm的矩形平面。采用本機(jī)并選擇適當(dāng)?shù)母郊勺詣?dòng)批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。無級調(diào)整擺動(dòng)頻率，實(shí)現(xiàn)平面磨拋更加平整。
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的性能特點(diǎn)：
1、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的吸附盤由四臺(tái)單獨(dú)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)、速度與壓力可調(diào)。
2、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的控制系統(tǒng)中采用PLC彩色終端等先進(jìn)技術(shù)，系統(tǒng)的響應(yīng)速度更快、更精確，并具有遠(yuǎn)程監(jiān)控，遠(yuǎn)程維護(hù)的功能。
3、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)運(yùn)行平穩(wěn)，拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負(fù)0.002mm范圍內(nèi)，粗糙度可達(dá)到0.0005mm。
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